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資料種別 記事・論文

Chemical Vapor Deposition Based Preparation on Porous Silica Films

Yasutaka Uchida,Takashi Katoh,Satoshi Sugahara 他

詳細情報

タイトル Chemical Vapor Deposition Based Preparation on Porous Silica Films
著者 Yasutaka Uchida
著者 Takashi Katoh
著者 Satoshi Sugahara 他
出版年 2000-11
件名(キーワード) low-k
件名(キーワード) inter-metal dielectrics
件名(キーワード) CVD
件名(キーワード) TICS
件名(キーワード) TMA
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 00214922
掲載誌情報(ISSNL形式) 00214922
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000159720-00
掲載誌名 Japanese journal of applied physics. Pt. 2, Letters
掲載巻 39
掲載号 11B
掲載通号 334
掲載ページ 1155~1157
言語(ISO639-2形式) eng : English

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