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資料種別 記事・論文

ケミカル・スパッタリング法による巨大粒径poly-Si薄膜の作製

亀崎 浩司,増田 淳,和泉 亮 他

詳細情報

タイトル ケミカル・スパッタリング法による巨大粒径poly-Si薄膜の作製
著者 亀崎 浩司
著者 増田 淳
著者 和泉 亮 他
シリーズ名 特集:薄膜プロセス・材料,一般
出版年 2000-10-27
件名(キーワード) 多結晶シリコン
件名(キーワード) 化学輸送
件名(キーワード) 触媒体
件名(キーワード) シード層
件名(キーワード) 大粒径
件名(キーワード) polycrystalline silicon
件名(キーワード) chemical sputtering method
件名(キーワード) chemical transport
件名(キーワード) catalyzer
件名(キーワード) seed layer
件名(キーワード) large grain size
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 09135685
掲載誌情報(ISSNL形式) 09135685
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000050569-00
掲載誌名 電子情報通信学会技術研究報告 : 信学技報
掲載巻 100
掲載号 396
掲載ページ 7~12
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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