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資料種別 記事・論文

最先端半導体洗浄技術の課題と展望--超純水の問題点と非水洗浄への挑戦を中心に

服部 毅

詳細情報

タイトル 最先端半導体洗浄技術の課題と展望--超純水の問題点と非水洗浄への挑戦を中心に
著者 服部 毅
出版年 2011
別タイトル Problems and prospects of the most advanced semiconductor cleaning: ultraclean water-related problems and waterless cleaning challenges
件名(キーワード) 半導体洗浄
件名(キーワード) semiconductor cleaning
件名(キーワード) 非水洗浄
件名(キーワード) non-aqueous cleaning
件名(キーワード) 局所クリーニング
件名(キーワード) pinpoint cleaning
件名(キーワード) パターン倒壊
件名(キーワード) pattern collapse
件名(キーワード) ダメージ
件名(キーワード) damage
件名(キーワード) 表面張力
件名(キーワード) surface tension
件名(キーワード) 超純水
件名(キーワード) ultrapure water
件名(キーワード) ウォーターマーク
件名(キーワード) watermark
件名(キーワード) 超臨界流体
件名(キーワード) supercritical fluid
件名(キーワード) 極低温エアロゾル
件名(キーワード) cryogenic aerosol
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 00235032
掲載誌情報(ISSNL形式) 00235032
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000005917-00
掲載誌名 空気清浄 : コンタミネーションコントロール
掲載巻 48
掲載号 6
掲載通号 310
掲載ページ 30~38
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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