記事・論文
タイトル | 半導体ナノテクノロジー研究室の研究概要--3族窒化物半導体薄膜のエピタキシャル成長と評価 |
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著者 | 鈴木 敏正 |
シリーズ名 | [日本工業大学]創造システム工学科特集号 ; 創造システム工学科の研究活動および研究活動を通じた教育実践 |
出版年 | 2011-02 |
別タイトル | Research outline of semiconductor nanotechnology laboratory: epitaxial growth and characterization of 3-nitride semiconductor thin films |
対象利用者 | 一般 |
資料の種別 | 記事・論文 |
掲載誌情報(ISSN形式) | 03892514 |
掲載誌情報(ISSNL形式) | 03892514 |
掲載誌情報(URI形式) | http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000018393-00 |
掲載誌名 | 日本工業大学研究報告 |
掲載巻 | 40 |
掲載号 | 4 |
掲載通号 | 131 |
掲載ページ | 753~756 |
言語(ISO639-2形式) | jpn : 日本語 |