記事・論文
| タイトル | 半導体ナノテクノロジー研究室の研究概要--3族窒化物半導体薄膜のエピタキシャル成長と評価 |
|---|---|
| 著者 | 鈴木 敏正 |
| シリーズ名 | [日本工業大学]創造システム工学科特集号 ; 創造システム工学科の研究活動および研究活動を通じた教育実践 |
| 出版年 | 2011-02 |
| 別タイトル | Research outline of semiconductor nanotechnology laboratory: epitaxial growth and characterization of 3-nitride semiconductor thin films |
| 対象利用者 | 一般 |
| 資料の種別 | 記事・論文 |
| 掲載誌情報（ISSN形式） | 03892514 |
| 掲載誌情報（ISSNL形式） | 03892514 |
| 掲載誌情報（URI形式） | http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000018393-00 |
| 掲載誌名 | 日本工業大学研究報告 |
| 掲載巻 | 40 |
| 掲載号 | 4 |
| 掲載通号 | 131 |
| 掲載ページ | 753～756 |
| 言語（ISO639-2形式） | jpn : 日本語 |
