記事・論文
タイトル | Behaviors of absolute densities of N, H, and NH3 at remote region of high-density radical source employing N2-H2 mixture plasmas |
---|---|
著者 | Shang Chen |
著者 | Hiroki Kondo |
著者 | Kenji Ishikawa 他 |
シリーズ名 | Special issue: Advanced plasma science and its applications for nitrides and nanomaterials |
出版年 | 2011-01 |
対象利用者 | 一般 |
資料の種別 | 記事・論文 |
掲載誌情報(ISSN形式) | 00214922 |
掲載誌情報(ISSNL形式) | 00214922 |
掲載誌情報(URI形式) | http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000009262265-00 |
掲載誌名 | Japanese journal of applied physics : JJAP |
掲載巻 | 50 |
掲載巻 | 2 |
掲載号 | 1 |
掲載ページ | 01AE03-1~4 |
言語(ISO639-2形式) | eng : English |