サイトメニューここからこのページの先頭です

ショートカットキーの説明を開始します。画面遷移や機能実行は、説明にあるショートカットキーを同時に押した後、Enterキーを押してください。ショートカットキーの説明を聞くには、Alt+0。トップ画面の表示には、Alt+1。ログインを行うには、Alt+2。簡易検索画面の表示には、Alt+3。詳細検索画面の表示には、Alt+4。障害者向け資料検索画面の表示には、Alt+5。検索結果の並び替えを行うには、Alt+6。国立国会図書館ホームページの表示には、Alt+7。検索結果の絞り込みを行うには、Alt+8。以上でショートカットキーの説明を終わります。

ナビゲーションここから

ナビゲーションここまで

本文ここから

資料種別 記事・論文

シリコン酸化膜犠牲層エッチング技術

年吉 洋

詳細情報

タイトル シリコン酸化膜犠牲層エッチング技術
著者 年吉 洋
シリーズ名 特集 プロセス技術
出版年 2011-01
別タイトル Silicon oxide sacrificial etching technology
件名(キーワード) マイクロマシニング
件名(キーワード) 犠牲層
件名(キーワード) シリコン酸化膜
件名(キーワード) 選択エッチング
件名(キーワード) リリース
件名(キーワード) micromachining
件名(キーワード) sacrificial layer
件名(キーワード) silicon oxide
件名(キーワード) selective etching
件名(キーワード) release
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 13418939
掲載誌情報(ISSNL形式) 13418939
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000097980-00
掲載誌名 電気学会論文誌. E, センサ・マイクロマシン部門誌
掲載巻 131
掲載号 1
掲載ページ 8~13
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

本文ここまで

Copyright © 2012 National Diet Library. All Rights Reserved.

フッター ここまで