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資料種別 記事・論文

半導体クリーンルームにおける分析技術(第3回)分子汚染の計測

白水 好美

詳細情報

タイトル 半導体クリーンルームにおける分析技術(第3回)分子汚染の計測
著者 白水 好美
出版年 2010
別タイトル Monitoring for molecular contaminants in semiconductor production lines
件名(キーワード) 分子汚染
件名(キーワード) Molecular Contaminants
件名(キーワード) 有機物
件名(キーワード) Organics
件名(キーワード) 塩基性物質
件名(キーワード) Bases
件名(キーワード) 酸性物質
件名(キーワード) Acids
件名(キーワード) 気中分子汚染
件名(キーワード) AMC
件名(キーワード) Airborne Molecular Contaminants
件名(キーワード) 表面分子汚染
件名(キーワード) SMC
件名(キーワード) Surface Molecular Contaminants
件名(キーワード) ゲート酸化膜耐圧
件名(キーワード) Dielectric breakdown of Gate Oxide Films
件名(キーワード) T-Top現象(レジスト解像不良)
件名(キーワード) T-Top phenomena
件名(キーワード) レチクルヘイズ
件名(キーワード) Reticle Haze
件名(キーワード) ガスクロマトグラフ質量分析装置
件名(キーワード) Gas Chromatography Mass Spectrometry
件名(キーワード) イオンクロマトグラフイー
件名(キーワード) Ion Chromatography
件名(キーワード) 拡散スクラバー
件名(キーワード) Diffusion Tube
件名(キーワード) ウェットデニューダ
件名(キーワード) Parallel Plate Wet Denuder
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 00235032
掲載誌情報(ISSNL形式) 00235032
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000005917-00
掲載誌名 空気清浄 : コンタミネーションコントロール
掲載巻 48
掲載号 4
掲載通号 308
掲載ページ 53~57
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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