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資料種別 記事・論文

An automatic modeling system of the calculation process of a CVD film deposition simulator

Takahiro Takahashi,Noriyuki Fukui,Masamoto Arakawa 他

詳細情報

タイトル An automatic modeling system of the calculation process of a CVD film deposition simulator
著者 Takahiro Takahashi
著者 Noriyuki Fukui
著者 Masamoto Arakawa 他
出版年 2010-12
件名(キーワード) Chemical Vapor Deposition
件名(キーワード) Process Simulator
件名(キーワード) Partial Least Squares Regression
件名(キーワード) Neural Network
件名(キーワード) Software Agent
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 00219592
掲載誌情報(ISSNL形式) 00219592
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000128548-00
掲載誌名 Journal of chemical engineering of Japan
掲載巻 43
掲載号 8-12
掲載ページ 977~982
言語(ISO639-2形式) eng : English

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