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資料種別 記事・論文

ラジカル反応を応用したZrNx膜の低温作製

佐藤 勝,武山 真弓,早坂 祐一郎 他

詳細情報

タイトル ラジカル反応を応用したZrNx膜の低温作製
著者 佐藤 勝
著者 武山 真弓
著者 早坂 祐一郎 他
シリーズ名 電子部品・材料
出版年 2010-07
別タイトル Low temperature of deposition of ZrNx film using radical reaction
件名(キーワード) Si-ULSI
件名(キーワード) Si貫通ビア配線
件名(キーワード) 拡散バリヤ
件名(キーワード) ZrN
件名(キーワード) ラジカル
件名(キーワード) through-silicon-via
件名(キーワード) diffusion barriers
件名(キーワード) radical species
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 09135685
掲載誌情報(ISSNL形式) 09135685
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000050569-00
掲載誌名 電子情報通信学会技術研究報告 : 信学技報
掲載巻 110
掲載号 154
掲載ページ 29~34
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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