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資料種別 記事・論文

招待講演 超臨界流体を用いた多孔質低誘電率薄膜プロセス--細孔の評価と洗浄

近藤 英一

詳細情報

タイトル 招待講演 超臨界流体を用いた多孔質低誘電率薄膜プロセス--細孔の評価と洗浄
著者 近藤 英一
シリーズ名 電子部品・材料
出版年 2010-07
別タイトル Invited: Science in porosity engineering of low-k dielectrics using supercritical carbon dioxide: pore characterization and pore cleaning
件名(キーワード) 超臨界CO2流体
件名(キーワード) エリプソメトリ
件名(キーワード) 細孔構造解析
件名(キーワード) 洗浄
件名(キーワード) 凝集
件名(キーワード) Supercritical CO2 fluid
件名(キーワード) ellipsometry
件名(キーワード) porosimetry
件名(キーワード) cleaning
件名(キーワード) condensation
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 09135685
掲載誌情報(ISSNL形式) 09135685
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000050569-00
掲載誌名 電子情報通信学会技術研究報告 : 信学技報
掲載巻 110
掲載号 154
掲載ページ 23~28
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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