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資料種別 記事・論文

容量結合型プラズマによる高速シリコン深掘り技術

酒井 伊都子,櫻井 典子,大岩 徳久

詳細情報

タイトル 容量結合型プラズマによる高速シリコン深掘り技術
著者 酒井 伊都子
著者 櫻井 典子
著者 大岩 徳久
シリーズ名 小特集 シリコン深掘り加工技術
出版地(国名コード) JP
別タイトル High rate deep Si etching using capacitively coupled plasma
出版年(W3CDTF) 2010-07
NDLC ZN15
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000008601226-00
掲載誌情報(ISSN形式) 18822398
掲載誌情報(ISSN-L形式) 18822398
掲載誌名 Journal of the Vacuum Society of Japan
掲載巻 53
掲載号 7
掲載ページ 429~434
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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