半導体・液晶プロセスにおける干渉計測の応用 (特集 光干渉計測最新動向)

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半導体・液晶プロセスにおける干渉計測の応用

(特集 光干渉計測最新動向)

国立国会図書館請求記号
Z16-1255
国立国会図書館書誌ID
10784252
資料種別
記事
著者
北川 克一
出版者
東京 : オプトロニクス社
出版年
2010-08
資料形態
掲載誌名
Optronics : 光技術コーディネートジャーナル 29(8) (通号 344) 2010.8
掲載ページ
p.117~123
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
北川 克一
シリーズタイトル
著者標目
並列タイトル等
Recent progress in interferometric surface profiling technology and its applications in semiconductor and LCD processes
タイトル(掲載誌)
Optronics : 光技術コーディネートジャーナル
巻号年月日等(掲載誌)
29(8) (通号 344) 2010.8
掲載巻
29
掲載号
8