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資料種別 記事・論文

Novel EUV Resist Materials Design for 14 nm Half Pitch and below

Shinji Tarutani,Hideaki Tsubaki,Toru Fujimori 他

詳細情報

タイトル Novel EUV Resist Materials Design for 14 nm Half Pitch and below
著者 Shinji Tarutani
著者 Hideaki Tsubaki
著者 Toru Fujimori 他
出版地(国名コード) JP
出版年(W3CDTF) 2014
件名(キーワード) EUV lithography
件名(キーワード) LWR
件名(キーワード) chemically amplified resist
件名(キーワード) negative tone imaging
件名(キーワード) EUV sensitizer
NDLC ZP48
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000156586-00
掲載誌情報(ISSN形式) 09149244
掲載誌情報(ISSN-L形式) 09149244
掲載誌名 Journal of photopolymer science and technology
掲載巻 27
掲載号 5
掲載ページ 645-654
言語(ISO639-2形式) eng : English

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