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資料種別 記事・論文

Novel EUV Resists Materials for 16nm HP and beyond

Kazunori Sakai,Motohiro Shiratani,Tomohisa Fujisawa 他

詳細情報

タイトル Novel EUV Resists Materials for 16nm HP and beyond
著者 Kazunori Sakai
著者 Motohiro Shiratani
著者 Tomohisa Fujisawa 他
出版地(国名コード) JP
出版年(W3CDTF) 2014
件名(キーワード) EUV 16nm HP
件名(キーワード) Fluorine resin
件名(キーワード) Short acid diffusion length PAG
件名(キーワード) Rinse
件名(キーワード) Defect
NDLC ZP48
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000156586-00
掲載誌情報(ISSN形式) 09149244
掲載誌情報(ISSN-L形式) 09149244
掲載誌名 Journal of photopolymer science and technology
掲載巻 27
掲載号 5
掲載ページ 639-644
言語(ISO639-2形式) eng : English

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