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資料種別 記事・論文

EUV Resist Chemical Analysis by Soft X-ray Absorption Spectroscopy for High Sensitivity Achievement

Kazuya Emura,Takeo Watanabe,Masato Yamaguchi 他

詳細情報

タイトル EUV Resist Chemical Analysis by Soft X-ray Absorption Spectroscopy for High Sensitivity Achievement
著者 Kazuya Emura
著者 Takeo Watanabe
著者 Masato Yamaguchi 他
出版年 2014
件名(キーワード) chemically amplified resist
件名(キーワード) PAG
件名(キーワード) reaction mechanism
件名(キーワード) acid diffusion length
件名(キーワード) soft x-ray absorption spectroscopy
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 09149244
掲載誌情報(ISSNL形式) 09149244
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000156586-00
掲載誌名 Journal of photopolymer science and technology
掲載巻 27
掲載号 5
掲載ページ 631-638
言語(ISO639-2形式) eng : English

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