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資料種別 記事・論文

A Study of Acid Diffusion Behaviors of PAG by using Top Coat Method for EUVL

Atsushi Sekiguchi,Takeo Watanabe,Hiroo Kinoshita

詳細情報

タイトル A Study of Acid Diffusion Behaviors of PAG by using Top Coat Method for EUVL
著者 Atsushi Sekiguchi
著者 Takeo Watanabe
著者 Hiroo Kinoshita
出版地(国名コード) JP
出版年(W3CDTF) 2014
件名(キーワード) Chemically amplified resist
件名(キーワード) Photo-acid generator
件名(キーワード) Acid diffusion length
件名(キーワード) Acid diffusion coefficient
件名(キーワード) EUV Lithography
NDLC ZP48
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000156586-00
掲載誌情報(ISSN形式) 09149244
掲載誌情報(ISSN-L形式) 09149244
掲載誌名 Journal of photopolymer science and technology
掲載巻 27
掲載号 5
掲載ページ 623-629
言語(ISO639-2形式) eng : English

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