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資料種別 記事・論文

Cr薄膜形成におけるSi基板酸化層の反射率への影響

山田 雄一,高橋 雄太郎,合田 一夫

詳細情報

タイトル Cr薄膜形成におけるSi基板酸化層の反射率への影響
著者 山田 雄一
著者 高橋 雄太郎
著者 合田 一夫
出版年 2012
別タイトル Effect of Si substrate oxidization on reflectance for Cr thin film
件名(キーワード) 原子蒸着
件名(キーワード) 反射率
件名(キーワード) 表面酸化
件名(キーワード) atomic deposition
件名(キーワード) reflectance
件名(キーワード) surface oxidization
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 13467239
掲載誌情報(ISSNL形式) 13467239
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000161343-00
掲載誌名 明星大学理工学部研究紀要
掲載号 48
掲載ページ 1-3
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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