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最新の中国特許情報及び日本特許実務とのいくつかの相違点 : 注目されている登録後の補正、分割出願及びPPH制度について (特集 経営における知的財産を取り巻く環境)

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最新の中国特許情報及び日本特許実務とのいくつかの相違点 : 注目されている登録後の補正、分割出願及びPPH制度について

(特集 経営における知的財産を取り巻く環境)

国立国会図書館請求記号
Z2-B677
国立国会図書館書誌ID
025600328
資料種別
記事
著者
劉 新宇
出版者
東京 : 知的財産研究所
出版年
2014
資料形態
掲載誌名
知財研フォーラム / 知的財産研究所 編 97:2014.春
掲載ページ
p.59-64
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
劉 新宇
著者標目
タイトル(掲載誌)
知財研フォーラム / 知的財産研究所 編
巻号年月日等(掲載誌)
97:2014.春
掲載巻
97
掲載ページ
59-64
掲載年月日(W3CDTF)
2014