Si含有炭素系膜の機...

Si含有炭素系膜の機械的特性及び基材表面近傍における残留応力挙動

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Si含有炭素系膜の機械的特性及び基材表面近傍における残留応力挙動

国立国会図書館請求記号
Z14-1003
国立国会図書館書誌ID
024956793
資料種別
記事
著者
三木 靖浩ほか
出版者
奈良 : 奈良県工業技術センター
出版年
2011
資料形態
掲載誌名
奈良県工業技術センター研究報告 = Report of Nara Prefectural Institute of Industrial Technology / 奈良県工業技術センター 編 (37):2011
掲載ページ
p.1-6
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
三木 靖浩
福垣内 学
並列タイトル等
The Mechanical Properties of Si Content Carbon Film and Residual Stress Behavior in Surface of Substrate
タイトル(掲載誌)
奈良県工業技術センター研究報告 = Report of Nara Prefectural Institute of Industrial Technology / 奈良県工業技術センター 編
巻号年月日等(掲載誌)
(37):2011
掲載号
37
掲載ページ
1-6
掲載年月日(W3CDTF)
2011