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資料種別 記事・論文

反応性スパッタリング法による太陽電池パッシベーション膜の作製と評価

伊藤 浩,川又 由雄,大山 昌憲

詳細情報

タイトル 反応性スパッタリング法による太陽電池パッシベーション膜の作製と評価
著者 伊藤 浩
著者 川又 由雄
著者 大山 昌憲
出版年 2013-09
別タイトル Preparation and characterization of surface passivation film of silicon solar cells by reactive sputtering method
件名(キーワード) silicon solar cell
件名(キーワード) passivation film
件名(キーワード) reactive sputtering
件名(キーワード) silicon nitride
件名(キーワード) carrier life time
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 02860503
掲載誌情報(ISSNL形式) 02860503
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000016194-00
掲載誌名 東京工業高等専門学校研究報告書 / 東京工業高等専門学校図書委員会 編
掲載号 45
掲載通号 1
掲載ページ 71-76
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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