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資料種別 記事・論文

イオン照射とスパッタリングの同時プロセスを利用したTiNi合金薄膜の低温合成技術の開発

池永 訓昭,作道 訓之

詳細情報

タイトル イオン照射とスパッタリングの同時プロセスを利用したTiNi合金薄膜の低温合成技術の開発
著者 池永 訓昭
著者 作道 訓之
シリーズ名 特集 エネルギーの創出・活用に関わるセンシング
出版年 2013-10
別タイトル Development of Low-Temperature Crystallization Process for TiNi Alloy Film by Sputtering Deposition Simultaneously with Ion Irradiation
件名(キーワード) TiNi形状記憶合金
件名(キーワード) プラズマイオン注入成膜
件名(キーワード) 低温結晶化
件名(キーワード) イオン照射
件名(キーワード) TiNi shape memory alloy
件名(キーワード) Plasma based ion implantation and deposition
件名(キーワード) low-temperature crystallization
件名(キーワード) ion irradiation
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 13418939
掲載誌情報(ISSNL形式) 13418939
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000097980-00
掲載誌名 電気学会論文誌. E, センサ・マイクロマシン部門誌 = IEEJ transactions on sensors and micromachines
掲載巻 133
掲載号 10
掲載ページ 297-300
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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