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資料種別 記事・論文

半導体プロセスへの自己組織化リソグラフィ応用

清野 由里子,加藤 寛和,米満 広樹 他

詳細情報

タイトル 半導体プロセスへの自己組織化リソグラフィ応用
著者 清野 由里子
著者 加藤 寛和
著者 米満 広樹 他
シリーズ名 特集 リソグラフィとその関連技術・応用技術
出版年 2013-10
別タイトル Application of Directed Self-Assembly Lithography to Semiconductor Device Manufacturing Process
件名(キーワード) 自己組織化
件名(キーワード) 物理ガイド
件名(キーワード) ブロックコポリマー
件名(キーワード) PS-b-PMMA
件名(キーワード) コンタクトホールシュリンク
件名(キーワード) ウェット現像
件名(キーワード) directed self assembly
件名(キーワード) graphoepitaxy
件名(キーワード) block copolymer
件名(キーワード) contact hole shrink
件名(キーワード) wet development
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 03854205
掲載誌情報(ISSNL形式) 03854205
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000015705-00
掲載誌名 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials
掲載巻 133
掲載号 10
掲載ページ 532-536
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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