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資料種別 記事・論文

コヒーレントEUV光源を用いたEUVLマスクの欠陥検出

永田 豊,原田 哲男,渡邊 健夫 他

詳細情報

タイトル コヒーレントEUV光源を用いたEUVLマスクの欠陥検出
著者 永田 豊
著者 原田 哲男
著者 渡邊 健夫 他
シリーズ名 特集 リソグラフィとその関連技術・応用技術
出版年 2013-10
別タイトル Detection of Defects in EUVL Mask using Coherent EUV Source
件名(キーワード) EUVリソグラフィ
件名(キーワード) コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡
件名(キーワード) コヒーレントEUV光
件名(キーワード) 高次高調波
件名(キーワード) EUV lithography
件名(キーワード) coherent scatterometry microscope
件名(キーワード) coherent EUV light
件名(キーワード) high order harmonics
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 03854205
掲載誌情報(ISSNL形式) 03854205
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000015705-00
掲載誌名 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials
掲載巻 133
掲載号 10
掲載ページ 509-518
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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