コヒーレントEUV光源を用いたEUVLマスクの欠陥検出 (特集 リソグラフィとその関連技術・応用技術)
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CiNii Research
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書誌情報
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- 資料種別
- 記事
- 著者・編者
- 永田 豊原田 哲男渡邊 健夫 他
- シリーズタイトル
- 並列タイトル等
- Detection of Defects in EUVL Mask using Coherent EUV Source
- タイトル（掲載誌）
- 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials
- 巻号年月日等（掲載誌）
- 133(10):2013.10
- 掲載巻
- 133
- 掲載号
- 10