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資料種別 記事・論文

EUVレジストにおけるAcid-Sensitive Dyesを用いたPAGからの酸の発生挙動の解析

関口 淳

詳細情報

タイトル EUVレジストにおけるAcid-Sensitive Dyesを用いたPAGからの酸の発生挙動の解析
著者 関口 淳
シリーズ名 特集 リソグラフィとその関連技術・応用技術
出版年 2013-10
別タイトル Analysis of the Generating Action of the Acid from PAG using Acid Sensitive Dyes for EUV Resist
件名(キーワード) 化学増幅レジスト
件名(キーワード) 酸発生剤
件名(キーワード) クエンチャー
件名(キーワード) クマリン6
件名(キーワード) EUVオープンフレーム露光ツール
件名(キーワード) chemically amplified resist
件名(キーワード) photo acid generator
件名(キーワード) quencher
件名(キーワード) Coumarin 6
件名(キーワード) EUV open frame exposure tool
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 03854205
掲載誌情報(ISSNL形式) 03854205
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000015705-00
掲載誌名 電気学会論文誌. A, 基礎・材料・共通部門誌 = IEEJ transactions on fundamentals and materials
掲載巻 133
掲載号 10
掲載ページ 500-504
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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