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資料種別 記事・論文

SIMS proceedings paper : Time-of-flight SIMS depth profiling of Na in SiO₂ glass using C₆₀ sputter ion beam

Daisuke Kobayashi,Yuichi Yamamoto,Tsuguhide Isemura

詳細情報

タイトル SIMS proceedings paper : Time-of-flight SIMS depth profiling of Na in SiO₂ glass using C₆₀ sputter ion beam
著者 Daisuke Kobayashi
著者 Yuichi Yamamoto
著者 Tsuguhide Isemura
出版年 2013
件名(キーワード) Na migration
件名(キーワード) Na implantation
件名(キーワード) ToF-SIMS
件名(キーワード) depth profiling
件名(キーワード) SiO₂ glass
件名(キーワード) C₆₀ sputter ion beam
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 00044210
掲載誌情報(ISSNL形式) 00044210
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000000971-00
掲載誌名 旭硝子研究報告 / 旭硝子株式会社中央研究所 [編]
掲載巻 63
掲載ページ 33-36
言語(ISO639-2形式) eng : English

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