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資料種別 記事・論文

FTIR-ATRスペクトルによる4H-SiCと熱酸化膜の界面構造の解析

喜多 浩之,平井 悠久

詳細情報

タイトル FTIR-ATRスペクトルによる4H-SiCと熱酸化膜の界面構造の解析
著者 喜多 浩之
著者 平井 悠久
シリーズ名 シリコン材料・デバイス
出版年 2013-06-18
別タイトル Study on Near-interface Structures of Thermal Oxides Grown on 4H-SiC Characterized by Infrared Spectroscopy
件名(キーワード) 4H-SiC
件名(キーワード) SiO₂
件名(キーワード) 熱酸化膜
件名(キーワード) 界面
件名(キーワード) 赤外分光
件名(キーワード) Thermal oxide
件名(キーワード) Interface
件名(キーワード) Infrared spectroscopy
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 09135685
掲載誌情報(ISSNL形式) 09135685
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000050569-00
掲載誌名 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
掲載巻 113
掲載号 87
掲載ページ 97-100
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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