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資料種別 記事・論文

触媒反応生成高エネルギーH₂Oを用いたZnO膜の成長 : ガラス基板上堆積膜の特性改善の試み

竹澤 和樹,中村 友紀,小柳 貴寛 他

詳細情報

タイトル 触媒反応生成高エネルギーH₂Oを用いたZnO膜の成長 : ガラス基板上堆積膜の特性改善の試み
著者 竹澤 和樹
著者 中村 友紀
著者 小柳 貴寛 他
シリーズ名 有機エレクトロニクス
出版年 2013-06-21
別タイトル ZnO film growth using high-energy H₂O generated by a catalytic reaction : Effect of low-temperature buffer layer
件名(キーワード) ZnO
件名(キーワード) 触媒反応
件名(キーワード) CVD
件名(キーワード) 表面モフォロジー
件名(キーワード) 光透過率
件名(キーワード) Hall移動度
件名(キーワード) catalytic reaction
件名(キーワード) surface morphology
件名(キーワード) optical transmittance
件名(キーワード) Hall mobility
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 09135685
掲載誌情報(ISSNL形式) 09135685
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000050569-00
掲載誌名 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
掲載巻 113
掲載号 98
掲載ページ 89-94
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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