300mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス (レーザ・量子エレクトロニクス)

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300mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス

(レーザ・量子エレクトロニクス)

国立国会図書館請求記号
Z16-940
国立国会図書館書誌ID
024678683
資料種別
記事
著者
北 智洋ほか
出版者
東京 : 電子情報通信学会
出版年
2013-06-21
資料形態
掲載誌名
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 113(100):2013.6.21
掲載ページ
p.1-5
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
北 智洋
田主 裕一朗
奈良 匡樹 他
並列タイトル等
Silicon photonics devices on 300 mm wafer fabricated by using ArF immersion lithography
タイトル(掲載誌)
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報
巻号年月日等(掲載誌)
113(100):2013.6.21
掲載巻
113
掲載号
100