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資料種別 記事・論文

Control of Resin Filling and Pattern Quality of Ultraviolet Nanoimprint Lithography in Pentafluoropropane and Helium Ambient

Sung-Won Youn,Kenta Suzuki,Qing Wang 他

詳細情報

タイトル Control of Resin Filling and Pattern Quality of Ultraviolet Nanoimprint Lithography in Pentafluoropropane and Helium Ambient
著者 Sung-Won Youn
著者 Kenta Suzuki
著者 Qing Wang 他
シリーズ名 Special Issue : Microprocesses and Nanotechnology
出版年 2013-06
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 00214922
掲載誌情報(ISSNL形式) 00214922
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000009262265-00
掲載誌名 Japanese journal of applied physics : JJAP
掲載巻 52
掲載号 6
掲載通号 2
掲載ページ 06GJ07-1-6
言語(ISO639-2形式) eng : English

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