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資料種別 記事・論文

非真空プロセス「ミストCVD法」でのIGZO/AlOx酸化物TFTの作製とその特性

川原村 敏幸,内田 貴之,王 大鵬 他

詳細情報

タイトル 非真空プロセス「ミストCVD法」でのIGZO/AlOx酸化物TFTの作製とその特性
著者 川原村 敏幸
著者 内田 貴之
著者 王 大鵬 他
シリーズ名 情報ディスプレイ
出版年 2013-01
別タイトル Fabrication and properties of Oxide TFT with an IGZO/AlOx stack prepared by non-vacuum process "mist CVD"
件名(キーワード) 酸化物薄膜トランジスタ
件名(キーワード) 酸化インジウムガリウム亜鉛
件名(キーワード) 酸化アルミニウム
件名(キーワード) ミスト化学気相成長法
件名(キーワード) Oxide TFT
件名(キーワード) IGZO
件名(キーワード) AlOx
件名(キーワード) mist CVD
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 13426893
掲載誌情報(ISSNL形式) 13426893
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000100864-00
掲載誌名 映像情報メディア学会技術報告 = ITE technical report
掲載巻 37
掲載号 2
掲載ページ 73-76
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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