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資料種別 記事・論文

非真空プロセス「ミストCVD法」でのIGZO/AlOx酸化物TFTの作製とその特性

川原村 敏幸,内田 貴之,王 大鵬 他

詳細情報

タイトル 非真空プロセス「ミストCVD法」でのIGZO/AlOx酸化物TFTの作製とその特性
著者 川原村 敏幸
著者 内田 貴之
著者 王 大鵬 他
シリーズ名 電子ディスプレイ
出版年 2013-01
別タイトル Fabrication and properties of Oxide TFT with an IGZO/AlOx stack prepared by non-vacuum process "mist CVD"
件名(キーワード) 酸化物薄膜トランジスタ
件名(キーワード) 酸化インジウムガリウム亜鉛
件名(キーワード) 酸化アルミニウム
件名(キーワード) ミスト化学気相成長法
件名(キーワード) Oxide TFT
件名(キーワード) IGZO
件名(キーワード) AlOx
件名(キーワード) mist CVD
対象利用者 一般
資料の種別 記事・論文
掲載誌情報(ISSN形式) 09135685
掲載誌情報(ISSNL形式) 09135685
掲載誌情報(URI形式) http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000050569-00
掲載誌名 電子情報通信学会技術研究報告 : 信学技報
掲載巻 112
掲載号 409
掲載ページ 73-76
言語(ISO639-2形式) jpn : 日本語

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