記事・論文
| タイトル | 減圧CVD法によるグラフェン成長制御 |
|---|---|
| 著者 | 前坂 考哉 |
| 著者 | 佐藤 英樹 |
| 著者 | 三宅 秀人 他 |
| シリーズ名 | 有機エレクトロニクス |
| 出版年 | 2013-01-24 |
| 別タイトル | Growth of graphene by low pressure chemical vapor deposition |
| 件名（キーワード） | グラフェン |
| 件名（キーワード） | 低温成長 |
| 件名（キーワード） | 減圧化学気相成長(LP-CVD)法 |
| 件名（キーワード） | Graphene |
| 件名（キーワード） | Low temperature growth |
| 件名（キーワード） | Low-pressure chemical vapor deposition (LP-CVD) |
| 対象利用者 | 一般 |
| 資料の種別 | 記事・論文 |
| 掲載誌情報（ISSN形式） | 09135685 |
| 掲載誌情報（ISSNL形式） | 09135685 |
| 掲載誌情報（URI形式） | http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000050569-00 |
| 掲載誌名 | 電子情報通信学会技術研究報告 : 信学技報 |
| 掲載巻 | 112 |
| 掲載号 | 410 |
| 掲載ページ | 31-35 |
| 言語（ISO639-2形式） | jpn : 日本語 |
