記事・論文
タイトル | 減圧CVD法によるグラフェン成長制御 |
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著者 | 前坂 考哉 |
著者 | 佐藤 英樹 |
著者 | 三宅 秀人 他 |
シリーズ名 | 有機エレクトロニクス |
出版年 | 2013-01-24 |
別タイトル | Growth of graphene by low pressure chemical vapor deposition |
件名(キーワード) | グラフェン |
件名(キーワード) | 低温成長 |
件名(キーワード) | 減圧化学気相成長(LP-CVD)法 |
件名(キーワード) | Graphene |
件名(キーワード) | Low temperature growth |
件名(キーワード) | Low-pressure chemical vapor deposition (LP-CVD) |
対象利用者 | 一般 |
資料の種別 | 記事・論文 |
掲載誌情報(ISSN形式) | 09135685 |
掲載誌情報(ISSNL形式) | 09135685 |
掲載誌情報(URI形式) | http://iss.ndl.go.jp/books/R100000002-I000000050569-00 |
掲載誌名 | 電子情報通信学会技術研究報告 : 信学技報 |
掲載巻 | 112 |
掲載号 | 410 |
掲載ページ | 31-35 |
言語(ISO639-2形式) | jpn : 日本語 |