極端紫外光リソグラフィー用レジスト開発 : レジスト内での像形成という視点から (実用化に向かう極端紫外リソグラフィー)

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極端紫外光リソグラフィー用レジスト開発 : レジスト内での像形成という視点から

(実用化に向かう極端紫外リソグラフィー)

国立国会図書館請求記号
Z15-269
国立国会図書館書誌ID
023593835
資料種別
記事
著者
古澤 孝弘
出版者
東京 : 日本光学会
出版年
2012-03
資料形態
掲載誌名
光学 = Japanese journal of optics : publication of the Optical Society of Japan 41(3):2012.3
掲載ページ
p.144-148
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
古澤 孝弘
著者標目
並列タイトル等
Development of Extreme Ultraviolet Resists : From the Viewpoint of Image Formation in Resist Materials
タイトル(掲載誌)
光学 = Japanese journal of optics : publication of the Optical Society of Japan
巻号年月日等(掲載誌)
41(3):2012.3
掲載巻
41
掲載号
3