極端紫外光を用いた6インチマスクの位相欠陥検査 (実用化に向かう極端紫外リソグラフィー)

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極端紫外光を用いた6インチマスクの位相欠陥検査

(実用化に向かう極端紫外リソグラフィー)

国立国会図書館請求記号
Z15-269
国立国会図書館書誌ID
023593824
資料種別
記事
著者
寺澤 恒男ほか
出版者
東京 : 日本光学会
出版年
2012-03
資料形態
掲載誌名
光学 = Japanese journal of optics : publication of the Optical Society of Japan 41(3):2012.3
掲載ページ
p.138-143
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書誌情報

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資料種別
記事
著者・編者
寺澤 恒男
山根 武
並列タイトル等
At Wavelength Inspection of 6-inch Extreme Ultraviolet Lithography Mask Blank
タイトル(掲載誌)
光学 = Japanese journal of optics : publication of the Optical Society of Japan
巻号年月日等(掲載誌)
41(3):2012.3
掲載巻
41
掲載号
3