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Electrical characterization of silicon oxynitride thin films grown by plasma nitridation and gate dielectric application in recessed channel MOSFETs

Electrical characterization of silicon oxynitride thin films grown by plasma nitridation and gate dielectric application in recessed channel MOSFETs
紙博士論文
Loku Dombawalage Rohana Dharmapriya Perera [著][Loku Dombawalage Rohana Dharmapriya Perera][2005]<UT51-2005-H370>
国立国会図書館
  • 並列タイトル等（連結）プラズマ窒化によるシリコン酸窒化薄膜の電気的特性評価と掘り込みチャンネルMOSFETゲート絶縁膜への応用
  • 並列タイトル等プラズマ窒化によるシリコン酸窒化薄膜の電気的特性評価と掘り込みチャンネルMOSFETゲート絶縁膜への応用

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